河北南通高真空镀膜设备

【真空镀膜改善基片与膜的结合】： 1. 加强去油去污处理，如是超声波清洗，重点考虑去油，若是手擦，考虑先用碳酸钙粉擦再清擦； 2. 加强镀前烘烤； 3. 有条件时，机组安装冷凝及（POLYCOLD）； 4. 提高真空度； 5. 有条件时，机组安装离子源； 6. 膜料的去潮； 7. 保持工作环境的干燥； 8. 对于多层膜，在膜系设计时，就要考虑第yi层膜与基片的匹配； 9. 采取研磨液复新去除镜片表面的腐蚀层； 10. 有时候适当降低蒸发速率对膜强度的提高有帮助，对提高膜表面光滑度有积极意义。 真空镀膜设备为什么会越来越慢？河北南通高真空镀膜设备

【为什么要在真空中镀膜】：1.镀的过程中不会受空气分子碰撞,有较大的动量到达待镀件表面2.防止气体“污染”.如：镀金属膜时可以防止氧化3.成膜过程不受气体影响,致密牢固4.真空（负压）状态下,镀膜材料的熔点教常压下低,易于融化蒸发（对于蒸发类型的镀膜）真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得明显技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为Zui具发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。河北驰诚真空镀膜设备赵先生真空镀膜设备日常怎么维护？

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【真空镀膜真空的基本概念】： 真空的划分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 极高真空

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之灰点脏】： 现象：镜片膜层表面或内部有一些电子（不是膜料点），有些可擦除，有些不能擦除。并且会有点状脱膜产生。 原因： 1. 真空室脏 2. 镜圈或碟片脏 3. 镜片上伞时就有灰尘点，上伞时没有检查挑选。 4. 镀制完成后的环境污染是膜外灰点的主要成因，特别是当镜片热的时候，更容易吸附灰尘，而且难以擦除。 改善思路：杜绝灰尘源 1. 工作环境改造成洁净车间，严格按洁净车间规范实施。 2. 尽可能做好环境卫生。尽量利用洁净工作台。 3. 真空室周期打扫，保持清洁。 真空镀膜设备的主要应用。河南真空镀膜设备测试

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【磁控溅射镀膜的历史】： 磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法,被普遍地应用于许多方面，特别是在微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域。1852年Grove首ci描述溅射这种物理现象,20世纪40年代溅射技术作为一种沉积镀膜方法开始得到应用和发展。60年代后随着半导体工业的迅速崛起,这种技术在集成电路生产工艺中,用于沉积集成电路中晶体管的金属电极层,才真正得以普及和guang泛的应用。磁控溅射技术出现和发展,以及80年代用于制作CD的反射层之后,磁控溅射技术应用领域得到极大地扩展,逐步成为制造许多产品的一种常用手段。 【磁控溅射原理】: 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，靶原子沉积在基片表面形成膜。二次电子受到磁场影响，被束缚在靶面的等离子体区域，二次电子在磁场作用下绕靶面做圆周运动，在运动过程中不断和氩原子发生撞击，电离出大量氩离子轰击靶材。 【磁控溅射优缺点】： 优点：工艺重复性好，薄膜纯度高，膜厚均匀，附着力好。 缺点：设备结构复杂，靶材利用率低。河北南通高真空镀膜设备